مونوکریسٹل لائن سلیکن کے لیے کروسیبل

CZ (Czochralski) طریقہ کار میں، ایک واحد کرسٹل ایک مونوکرسٹل لائن بیج کو پگھلے ہوئے پولی کرسٹل لائن سلیکون کے ساتھ رابطے میں لا کر اگایا جاتا ہے۔ بیج کو دھیرے دھیرے گھمانے کے ساتھ ساتھ اوپر کی طرف کھینچا جاتا ہے۔ اس عمل میں، گریفائٹ کے پرزوں کی ایک خاصی تعداد استعمال کی جاتی ہے، جس سے یہ وہ طریقہ بنتا ہے جو سلکان سیمی کنڈکٹر مینوفیکچرنگ میں گریفائٹ کے اجزاء کی سب سے زیادہ مقدار کو استعمال کرتا ہے۔

ذیل کی تصویر CZ طریقہ پر مبنی سلکان سنگل کرسٹل مینوفیکچرنگ فرنس کی منصوبہ بندی کی نمائندگی کرتی ہے۔

Monocrystalline Silicon کے لیے Vetek Semiconductor's Crucible ایک مستحکم اور کنٹرول شدہ ماحول فراہم کرتا ہے جو سیمی کنڈکٹر کرسٹل کی درست تشکیل کے لیے اہم ہے۔ وہ جدید تکنیکوں جیسے کہ زوکرالسکی عمل اور فلوٹ زون کے طریقوں کا استعمال کرتے ہوئے مونو کرسٹل لائن سلکان انگوٹوں کو اگانے میں اہم کردار ادا کرتے ہیں، جو الیکٹرانک آلات کے لیے اعلیٰ معیار کا مواد تیار کرنے کے لیے ضروری ہیں۔

شاندار تھرمل استحکام، کیمیائی سنکنرن مزاحمت، اور کم سے کم تھرمل توسیع کے لیے تیار کردہ، یہ کروسیبلز پائیداری اور مضبوطی کو یقینی بناتے ہیں۔ انہیں ساختی سالمیت یا کارکردگی پر سمجھوتہ کیے بغیر سخت کیمیائی ماحول کا مقابلہ کرنے کے لیے ڈیزائن کیا گیا ہے، اس طرح کروسیبل کی عمر میں توسیع ہوتی ہے اور طویل استعمال پر مسلسل کارکردگی کو برقرار رکھا جاتا ہے۔

monocrystalline سلکان کے لیے Vetek Semiconductor Crucibles کی منفرد ساخت انہیں اعلی درجہ حرارت کی پروسیسنگ کے انتہائی حالات کو برداشت کرنے کے قابل بناتی ہے۔ یہ غیر معمولی تھرمل استحکام اور پاکیزگی کی ضمانت دیتا ہے، جو سیمی کنڈکٹر پروسیسنگ کے لیے اہم ہیں۔ یہ مرکب حرارت کی موثر منتقلی میں بھی سہولت فراہم کرتا ہے، یکساں کرسٹلائزیشن کو فروغ دیتا ہے اور سلکان پگھلنے کے اندر تھرمل گریڈینٹ کو کم کرتا ہے۔

ہمارے SiC کوٹنگ سسیپٹر کے فوائد:

بیس میٹریل پروٹیکشن: CVD SiC کوٹنگ ایپیٹیکسیل عمل کے دوران ایک حفاظتی پرت کے طور پر کام کرتی ہے، جو بنیادی مواد کو بیرونی ماحول کی وجہ سے ہونے والے کٹاؤ اور نقصان سے مؤثر طریقے سے بچاتی ہے۔ یہ حفاظتی اقدام سامان کی سروس کی زندگی کو بہت بڑھا دیتا ہے۔

بہترین تھرمل کنڈکٹیویٹی: ہماری CVD SiC کوٹنگ شاندار تھرمل چالکتا رکھتی ہے، جو کہ بنیادی مواد سے کوٹنگ کی سطح پر حرارت کو مؤثر طریقے سے منتقل کرتی ہے۔ یہ ایپیٹیکسی کے دوران تھرمل مینجمنٹ کی کارکردگی کو بڑھاتا ہے، آلات کے لیے بہترین آپریٹنگ درجہ حرارت کو یقینی بناتا ہے۔

بہتر فلم کا معیار: CVD SiC کوٹنگ فلیٹ اور یکساں سطح فراہم کرتی ہے، جو فلم کی نشوونما کے لیے ایک مثالی بنیاد بناتی ہے۔ یہ جالیوں کی مماثلت کے نتیجے میں پیدا ہونے والے نقائص کو کم کرتا ہے، ایپیٹیکسیل فلم کے کرسٹل پن اور معیار کو بڑھاتا ہے، اور بالآخر اس کی کارکردگی اور وشوسنییتا کو بہتر بناتا ہے۔

اپنی ایپیٹیکسیل ویفر پروڈکشن کی ضروریات کے لیے ہمارے SiC کوٹنگ سسیپٹر کا انتخاب کریں، اور بہتر تحفظ، اعلی تھرمل چالکتا، اور بہتر فلم کے معیار سے فائدہ اٹھائیں۔ سیمی کنڈکٹر انڈسٹری میں اپنی کامیابی کو آگے بڑھانے کے لیے VeTek Semiconductor کے جدید حل پر بھروسہ کریں۔

پیداوار کی دکانیں:

سیمی کنڈکٹر چپ ایپیٹیکسی انڈسٹری چین کا جائزہ: