سلکان ایپیٹیکسی کی خصوصیات

سلکان ایپیٹیکسی کی خصوصیات مندرجہ ذیل ہیں:

اعلی طہارت: کیمیائی بخارات جمع کرنے (CVD) سے اگنے والی سلکان ایپیٹیکسیل تہہ میں روایتی ویفرز کے مقابلے انتہائی اعلیٰ پاکیزگی، سطح کی ہمواری اور کم خرابی کی کثافت ہوتی ہے۔

پتلی فلم کی یکسانیت: سلیکون ایپیٹیکسی ایک خاص گارنٹی شدہ شرح نمو کے تحت ایک بہت ہی یکساں پتلی فلم بنا سکتی ہے۔ ایک ہی وقت میں، حرارتی نظام کی یکسانیت حاصل کی جا سکتی ہے، اس طرح کرسٹل کی ساخت کے نقائص کو کم کیا جا سکتا ہے اور کرسٹل کے معیار کو بہتر بنایا جا سکتا ہے۔

مضبوط کنٹرولیبلٹی: سلیکن ایپیٹیکسی ٹیکنالوجی سلکان مواد کی شکل، سائز اور ساخت کو درست طریقے سے کنٹرول کر سکتی ہے، اور پیچیدہ کرسٹل ڈھانچے کو بڑھا سکتی ہے، جیسے ملٹی لیئر ہیٹروجنکشن۔

بڑے ویفر قطر: سیلیکون ایپیٹیکسیل گروتھ ٹیکنالوجی بڑے قطر کے ساتھ سلکان ویفرز کو بڑھا سکتی ہے، اور سیمی کنڈکٹرز کی تیاری کے لیے بڑے قطر کے سلکان ویفرز کو تیار کرنے کی صلاحیت بہت ضروری ہے۔

عمل کی وشوسنییتا: سلکان ایپیٹیکسیل عمل کو کئی بار دوبارہ استعمال کیا جا سکتا ہے، جو سیمی کنڈکٹر آلات کی بڑے پیمانے پر پیداوار کے لیے بہت اہمیت رکھتا ہے۔