چین MOCVD ٹیکنالوجی مینوفیکچرر، سپلائر، فیکٹری

VeTek Semiconductor MOCVD ٹیکنالوجی کے اسپیئر پارٹس میں فائدہ اور تجربہ رکھتا ہے۔

MOCVD، Metal-organic Chemical Vapor Deposition (metal-organic Chemical Vapor Deposition) کا پورا نام، دھاتی-نامیاتی بخارات کا مرحلہ بھی کہا جا سکتا ہے۔ آرگنومیٹالک مرکبات دھات کاربن بانڈ کے ساتھ مرکبات کی ایک کلاس ہیں۔ ان مرکبات میں دھات اور کاربن ایٹم کے درمیان کم از کم ایک کیمیائی بانڈ ہوتا ہے۔ دھاتی-نامیاتی مرکبات اکثر پیشگی کے طور پر استعمال ہوتے ہیں اور جمع کرنے کی مختلف تکنیکوں کے ذریعے سبسٹریٹ پر پتلی فلمیں یا نانو اسٹرکچر بنا سکتے ہیں۔

دھاتی-نامیاتی کیمیائی بخارات جمع کرنا (MOCVD ٹیکنالوجی) ایک عام ایپیٹیکسیل ترقی کی ٹیکنالوجی ہے، MOCVD ٹیکنالوجی بڑے پیمانے پر سیمی کنڈکٹر لیزرز اور ایل ای ڈیز کی تیاری میں استعمال ہوتی ہے۔ خاص طور پر جب ایل ای ڈیز تیار کرتے ہیں، MOCVD گیلیم نائٹرائڈ (GaN) اور متعلقہ مواد کی تیاری کے لیے ایک کلیدی ٹیکنالوجی ہے۔

Epitaxy کی دو اہم شکلیں ہیں: Liquid Phase Epitaxy (LPE) اور Vapor Phase Epitaxy (VPE)۔ گیس فیز ایپیٹیکسی کو مزید دھاتی نامیاتی کیمیائی بخارات جمع کرنے (MOCVD) اور مالیکیولر بیم ایپیٹیکسی (MBE) میں تقسیم کیا جاسکتا ہے۔

غیر ملکی سازوسامان مینوفیکچررز کی نمائندگی بنیادی طور پر Aixtron اور Veeco کرتے ہیں۔ ایم او سی وی ڈی سسٹم لیزرز، ایل ای ڈیز، فوٹو الیکٹرک پرزوں، پاور، آر ایف ڈیوائسز اور سولر سیلز کی تیاری کے لیے کلیدی آلات میں سے ایک ہے۔

ہماری کمپنی کے تیار کردہ MOCVD ٹیکنالوجی کے اسپیئر پارٹس کی اہم خصوصیات:

1) اعلی کثافت اور مکمل انکیپسولیشن: مجموعی طور پر گریفائٹ کی بنیاد ایک اعلی درجہ حرارت اور سنکنرن کام کرنے والے ماحول میں ہے، سطح کو مکمل طور پر لپیٹا جانا چاہیے، اور کوٹنگ میں اچھا حفاظتی کردار ادا کرنے کے لیے اچھی کثافت ہونی چاہیے۔

2) اچھی سطح کا چپٹا پن: چونکہ سنگل کرسٹل کی نشوونما کے لیے استعمال ہونے والے گریفائٹ بیس کو بہت زیادہ سطح کی ہمواری کی ضرورت ہوتی ہے، اس لیے کوٹنگ تیار ہونے کے بعد بیس کی اصل ہمواری برقرار رکھی جانی چاہیے، یعنی کوٹنگ کی تہہ یکساں ہونی چاہیے۔

3) اچھی بانڈنگ طاقت: گریفائٹ بیس اور کوٹنگ میٹریل کے درمیان تھرمل توسیع کے گتانک میں فرق کو کم کریں، جو دونوں کے درمیان بانڈنگ کی مضبوطی کو مؤثر طریقے سے بہتر بنا سکتا ہے، اور اعلی اور کم درجہ حرارت کی گرمی کا سامنا کرنے کے بعد کوٹنگ کا ٹوٹنا آسان نہیں ہے۔ سائیکل

4) اعلی تھرمل چالکتا: اعلی معیار کی چپ کی نشوونما کے لیے تیز رفتار اور یکساں حرارت فراہم کرنے کے لیے گریفائٹ بیس کی ضرورت ہوتی ہے، اس لیے کوٹنگ کے مواد میں اعلی تھرمل چالکتا ہونا چاہیے۔

5) ہائی پگھلنے کا نقطہ، اعلی درجہ حرارت آکسیکرن مزاحمت، سنکنرن مزاحمت: کوٹنگ کو اعلی درجہ حرارت اور سنکنرن کام کرنے والے ماحول میں مستحکم طور پر کام کرنے کے قابل ہونا چاہئے۔

4 انچ سبسٹریٹ رکھیں
ایل ای ڈی کو اگانے کے لیے نیلے سبز رنگ کی ایپیٹکسی
ری ایکشن چیمبر میں رکھا
ویفر کے ساتھ براہ راست رابطہ 4 انچ سبسٹریٹ رکھیں
UV LED epitaxial فلم کو اگانے کے لیے استعمال کیا جاتا ہے۔
ری ایکشن چیمبر میں رکھا
ویفر کے ساتھ براہ راست رابطہ Veeco K868/Veeco K700 مشین
سفید ایل ای ڈی ایپیٹیکسی / بلیو گرین ایل ای ڈی ایپیٹیکسی VEECO آلات میں استعمال کیا جاتا ہے۔
MOCVD Epitaxy کے لیے
SiC کوٹنگ سسیپٹر ایکسٹرون ٹی ایس کا سامان
ڈیپ الٹرا وائلٹ ایپیٹیکسی
2 انچ سبسٹریٹ ویکو کا سامان
سرخ پیلے ایل ای ڈی ایپیٹیکسی
4 انچ ویفر سبسٹریٹ ٹی اے سی لیپت سسیپٹر
(SiC Epi/UV LED رسیور) سی سی لیپت سسپٹر
(ALD/ Si Epi/ LED MOCVD Susceptor)

View as

SiC کوٹنگ کور سیگمنٹس اندرونی

VeTek Semiconductor میں، ہم CVD SiC کوٹنگ اور CVD TaC کوٹنگ کی تحقیق، ترقی اور صنعت کاری میں مہارت رکھتے ہیں۔ ایک مثالی پروڈکٹ SiC کوٹنگ کور سیگمنٹس انر ہے، جو انتہائی درست اور گھنے لیپت CVD SiC سطح کو حاصل کرنے کے لیے وسیع پروسیسنگ سے گزرتا ہے۔ یہ کوٹنگ اعلی درجہ حرارت کے خلاف غیر معمولی مزاحمت کا مظاہرہ کرتی ہے اور مضبوط سنکنرن تحفظ فراہم کرتی ہے۔ کسی بھی پوچھ گچھ کے لئے ہم سے بلا جھجھک رابطہ کریں۔

مزید پڑھ انکوائری بھیجیں۔

SiC کوٹنگ کور سیگمنٹس

Vetek Semiconductor CVD SiC کوٹنگ اور CVD TaC کوٹنگ کی ترقی اور کمرشلائزیشن کے لیے وقف ہے۔ ایک مثال کے طور پر، ہمارے SiC کوٹنگ کور سیگمنٹس کو پیچیدہ پروسیسنگ سے گزرنا پڑتا ہے، جس کے نتیجے میں غیر معمولی درستگی کے ساتھ گھنے CVD SiC کوٹنگ ہوتی ہے۔ یہ اعلی درجہ حرارت کے خلاف قابل ذکر مزاحمت کا مظاہرہ کرتا ہے اور سنکنرن کے خلاف مضبوط تحفظ فراہم کرتا ہے۔ ہم آپ کی پوچھ گچھ کا خیرمقدم کرتے ہیں۔

مزید پڑھ انکوائری بھیجیں۔

MOCVD قبول کنندہ

Vetek Semiconductor CVD SiC کوٹنگ اور CVD TaC کوٹنگ کی تحقیق اور ترقی اور صنعت کاری پر توجہ مرکوز کرتا ہے۔ MOCVD Susceptor کو ایک مثال کے طور پر لیتے ہوئے، پروڈکٹ کو اعلیٰ درستگی، گھنے CVD SIC کوٹنگ، اعلی درجہ حرارت کی مزاحمت اور مضبوط سنکنرن مزاحمت کے ساتھ انتہائی پروسیس کیا جاتا ہے۔ ہمارے بارے میں انکوائری خوش آئند ہے۔

مزید پڑھ انکوائری بھیجیں۔

MOCVD Epitaxial Susceptor for 4" Wafer

VeTek Semiconductor ایک پیشہ ور صنعت کار اور سپلائر ہے، جو 4" Wafer کے لیے اعلیٰ معیار کا MOCVD Epitaxial Susceptor فراہم کرنے کے لیے وقف ہے۔ صنعت کے بھرپور تجربے اور ایک پیشہ ور ٹیم کے ساتھ، ہم اپنے گاہکوں کو ماہر اور موثر حل فراہم کرنے کے قابل ہیں۔

مزید پڑھ انکوائری بھیجیں۔

سیمی کنڈکٹر سسیپٹر بلاک سی سی لیپت

VeTek Semiconductor کا Semiconductor susceptor block SiC کوٹڈ ایک انتہائی قابل اعتماد اور پائیدار ڈیوائس ہے۔ یہ مستحکم کارکردگی اور لمبی عمر کو برقرار رکھتے ہوئے اعلی درجہ حرارت اور سخت کیمیائی ماحول کو برداشت کرنے کے لیے ڈیزائن کیا گیا ہے۔ اپنی بہترین پروسیسنگ صلاحیتوں کے ساتھ، سیمی کنڈکٹر سسیپٹر بلاک SiC Coated تبدیلی اور دیکھ بھال کی فریکوئنسی کو کم کرتا ہے، اس طرح پیداوار کی کارکردگی میں بہتری آتی ہے۔ ہم آپ کے ساتھ تعاون کرنے کے موقع کے منتظر ہیں۔

مزید پڑھ انکوائری بھیجیں۔

SiC لیپت MOCVD Susceptor

VeTek Semiconductor کا SiC Coated MOCVD Susceptor بہترین عمل، پائیداری اور قابل اعتماد آلہ ہے۔ وہ اعلی درجہ حرارت اور کیمیائی ماحول کو برداشت کر سکتے ہیں، مستحکم کارکردگی اور طویل زندگی کو برقرار رکھ سکتے ہیں، اس طرح تبدیلی اور بحالی کی تعدد کو کم کر سکتے ہیں اور پیداوار کی کارکردگی کو بہتر بنا سکتے ہیں۔ ہمارا MOCVD Epitaxial Susceptor اپنی اعلی کثافت، بہترین چپٹی اور بہترین تھرمل کنٹرول کے لیے مشہور ہے، جو اسے سخت مینوفیکچرنگ ماحول میں ترجیحی سامان بناتا ہے۔ آپ کے ساتھ تعاون کرنے کے منتظر

مزید پڑھ انکوائری بھیجیں۔

<1 2 3 4 >

چین میں ایک پیشہ ور MOCVD ٹیکنالوجی مینوفیکچرر اور سپلائر کے طور پر، ہماری اپنی فیکٹری ہے۔ چاہے آپ کو اپنے علاقے کی مخصوص ضروریات کو پورا کرنے کے لیے حسب ضرورت خدمات کی ضرورت ہو یا چین میں تیار کردہ جدید اور پائیدار MOCVD ٹیکنالوجی خریدنا ہو، آپ ہمیں ایک پیغام دے سکتے ہیں۔