TaC کوٹنگ کے ساتھ MOCVD سسپٹر

VeTek Semiconductor ایک جامع سپلائر ہے جو تحقیق، ترقی، پیداوار، ڈیزائن، اور TaC کوٹنگز اور SiC کوٹنگ حصوں کی فروخت میں ملوث ہے۔ ہماری مہارت TaC کوٹنگ کے ساتھ جدید ترین MOCVD Susceptor کی تیاری میں ہے، جو LED epitaxy کے عمل میں اہم کردار ادا کرتی ہے۔ ہم آپ کو ہمارے ساتھ پوچھ گچھ اور مزید معلومات پر تبادلہ خیال کرنے کا خیرمقدم کرتے ہیں۔

انکوائری بھیجیں۔

مصنوعات کی وضاحت

VeTek سیمی کنڈکٹر ایک سرکردہ چینی صنعت کار، سپلائر، اور برآمد کنندہ ہے جو TaC کوٹنگ کے ساتھ MOCVD Susceptor میں مہارت رکھتا ہے۔ TaC کوٹنگ کے ساتھ تازہ ترین فروخت، کم قیمت، اور اعلیٰ معیار کے MOCVD Susceptors خریدنے کے لیے ہماری فیکٹری میں آنے کا آپ کا خیرمقدم ہے۔ ہم آپ کے ساتھ تعاون کرنے کے منتظر ہیں۔

ایل ای ڈی ایپیٹیکسی کو کرسٹل کوالٹی کنٹرول، میٹریل سلیکشن اور میچنگ، سٹرکچرل ڈیزائن اور آپٹیمائزیشن، پروسیس کنٹرول اور مستقل مزاجی، اور روشنی نکالنے کی کارکردگی جیسے چیلنجز کا سامنا ہے۔ صحیح ایپیٹیکسی ویفر کیریئر میٹریل کا انتخاب بہت ضروری ہے، اور اسے ٹینٹلم کاربائیڈ (TaC) پتلی فلم (TaC کوٹنگ) کے ساتھ کوٹنگ اضافی فوائد فراہم کرتی ہے۔

ایپیٹیکسی ویفر کیریئر مواد کا انتخاب کرتے وقت، کئی اہم عوامل پر غور کرنے کی ضرورت ہے:

درجہ حرارت کی رواداری اور کیمیائی استحکام: ایل ای ڈی ایپیٹیکسی عمل میں اعلی درجہ حرارت شامل ہوتا ہے اور اس میں کیمیکلز کا استعمال شامل ہو سکتا ہے۔ لہذا، اعلی درجہ حرارت اور کیمیائی ماحول میں کیریئر کے استحکام کو یقینی بنانے کے لیے اچھی درجہ حرارت رواداری اور کیمیائی استحکام کے ساتھ مواد کا انتخاب کرنا ضروری ہے۔

سطح کا چپٹا پن اور پہننے کی مزاحمت: ایپیٹیکسی ویفر کیرئیر کی سطح اچھی چپٹی ہونی چاہیے تاکہ یکساں رابطے اور ایپیٹیکسی ویفر کی مستحکم نشوونما کو یقینی بنایا جا سکے۔ مزید برآں، سطح کو پہنچنے والے نقصان اور رگڑ کو روکنے کے لیے لباس مزاحمت اہم ہے۔

تھرمل چالکتا: اچھی تھرمل چالکتا کے ساتھ مواد کا انتخاب گرمی کو مؤثر طریقے سے ختم کرنے میں مدد کرتا ہے، epitaxy تہہ کے لیے مستحکم نمو کا درجہ حرارت برقرار رکھتا ہے اور عمل کے استحکام اور مستقل مزاجی کو بہتر بناتا ہے۔

اس سلسلے میں، epitaxy wafer کیریئر کو TaC کے ساتھ کوٹنگ کرنے سے درج ذیل فوائد حاصل ہوتے ہیں:

اعلی درجہ حرارت کا استحکام: TaC کوٹنگ بہترین اعلی درجہ حرارت کے استحکام کو ظاہر کرتی ہے، جس سے یہ اعلی درجہ حرارت کے اپیٹیکسی عمل کے دوران اپنی ساخت اور کارکردگی کو برقرار رکھ سکتا ہے اور اعلی درجہ حرارت کی رواداری فراہم کرتا ہے۔

کیمیائی استحکام: ٹی اے سی کوٹنگ عام کیمیکلز اور ماحول سے سنکنرن کے خلاف مزاحم ہے، کیریئر کو کیمیائی انحطاط سے بچاتی ہے اور اس کی پائیداری کو بڑھاتی ہے۔

سختی اور پہننے کی مزاحمت: TaC کوٹنگ میں اعلی سختی اور پہننے کی مزاحمت ہوتی ہے، ایپیٹیکسی ویفر کیریئر کی سطح کو مضبوط کرتی ہے، نقصان اور پہننے کو کم کرتی ہے، اور اس کی عمر کو طول دیتی ہے۔

تھرمل چالکتا: ٹی اے سی کوٹنگ اچھی تھرمل چالکتا کا مظاہرہ کرتی ہے، گرمی کی کھپت میں مدد کرتی ہے، ایپیٹیکسی پرت کے لیے مستحکم نمو کا درجہ حرارت برقرار رکھتی ہے، اور عمل کے استحکام اور مستقل مزاجی کو بہتر بناتی ہے۔

لہذا، TaC کوٹنگ کے ساتھ ایپیٹیکسی ویفر کیریئر کا انتخاب اعلی درجہ حرارت اور کیمیائی ماحول کی ضروریات کو پورا کرتے ہوئے، LED ایپیٹیکسی کے چیلنجوں سے نمٹنے میں مدد کرتا ہے۔ یہ کوٹنگ اعلی درجہ حرارت کا استحکام، کیمیائی استحکام، سختی اور پہننے کی مزاحمت، اور تھرمل چالکتا جیسے فوائد پیش کرتی ہے، جو ایپیٹیکسی ویفر کیریئر کی بہتر کارکردگی، عمر، اور پیداواری کارکردگی میں معاون ہے۔

TaC کوٹنگ کی بنیادی جسمانی خصوصیات:

ٹی اے سی کوٹنگ کی جسمانی خصوصیات
کثافت	14.3 (g/cm³)
مخصوص اخراج	0.3
تھرمل توسیع گتانک	6.3 10-6/K
سختی (HK)	2000 HK
مزاحمت	1×10-5 اوہم*سینٹی میٹر
تھرمل استحکام	<2500℃
گریفائٹ سائز میں تبدیلی	-10~-20um
کوٹنگ کی موٹائی	≥20um عام قدر (35um±10um)